脉冲激光沉积溅射台由PLD沉积室盒带磁控靶的进样室组成，具有计算机控制功能，严格控制镀膜时间，薄膜的重复性和一致性。同时，本设备具有激光二维扫描，可实现靶材表面均匀的溅出，不仅提高靶材利用率，而且可以提高薄膜均匀性，在镀制薄膜和超薄膜方面具有较强的优势。设备技术参数如下：激光沉积腔室参数：极限真空：2×10^-6 Pa；本底真空：小于6×10^-3 Pa；生长温度：室温-850℃；射频磁控溅射腔室：极限真空：2×10^-6 Pa；本底真空：小于6×10^-3 Pa；生长温度：室温-600℃；靶材尺寸：直径50-60mm；反应氛围：氧气、氮气；样品要求：直径小于30mm（基片）。