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等离子体增强原子层沉积PEALD

作者：时间：2022-03-15 点击数：

预约使用	http://222.194.64.196/lims/!equipments/equipment/index.55	送样测试	http://222.194.64.196/lims/!equipments/equipment/index.55
联系人	王成园	联系电话	0531-88390181-8223
放置地点	软件园校区教研楼B104	仪器品牌	芬兰 Picosun
规格型号	R-200 Advanced	启用时间	2021年
所属机构	微电子学院	资产编号
开放共享	是

适用于沉积几纳米厚的超薄膜，包括氧化铪，氧化硅，氧化铝，氧化镓等，有出色的均匀性、对3D 结构有非常好的覆盖一致性。

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