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感应耦合等离子体化学气相沉积系统（ICPECVD）

作者：时间：2022-03-15 点击数：

预约使用	http://222.194.64.196/lims/!equipments/equipment/index.33	送样测试	http://222.194.64.196/lims/!equipments/equipment/index.33
联系人	贾磊	联系电话	18654559573
放置地点	软件园校区教研楼B104	仪器品牌	SENTECH
规格型号	SI 500D	启用时间
所属机构		资产编号	2111632S
开放共享

沉积二氧化硅、氮化硅薄膜；
沉积速率：≥ 15 nm/min；样品尺寸：≤4英寸；
ICP功率：1200W；温度范围：室温~350℃；
本底真空 ≤ 1 × 10-5 Pa。

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