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紫外曝光系统

联系人:贾磊

放置地点:软件园校区教研楼B104

规格型号:MBJ4

资产编号:1404308S

光刻胶紫外曝光和套刻曝光,配有高可靠和高精度的对准系统,同时具备亚微米量级的高分辨率图形转移能力。

1. 主要技术指标

1)两种紫外光源:365 nm(功率密度~14 mW/cm2), 405 nm(功率密度~15 mW/cm2.

2)四种接触模式: Soft contact, Hard contact, Vacuum contact, Low vacuum contact.

3Mask Holder兼容3– 4寸的光刻版.

2. 样品要求

样品尺寸小于4 英寸

 

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