联系人：贾磊
放置地点：软件园校区教研楼B104
规格型号：SI 500D
资产编号：2111632S
英文名称：Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
联系电话：18654559573
仪器品牌：SENTECH
沉积二氧化硅、氮化硅薄膜；沉积速率：≥ 15 nm/min；样品尺寸：≤4英寸；ICP功率：1200W；温度范围：室温~350℃；本底真空 ≤ 1 × 10-5 Pa。
