Helios G4 UC聚焦离子/电子双束电镜将超高分辨率场发射电子镜筒和高精度的聚焦离子镜筒结合在一起，可对材料进行微纳米表征、微纳加工和TEM样品定点制备等。该设备还可以将聚焦离子束的逐层切割技术与高分辨电子束的微观扫描以及微区域的实时X射线能谱（EDX）成像技术进行有机整合，通过对微纳材料逐层剖析，实现三维立体微观结构与元素组分空间分布的全面解析诊断，现将该仪器的扫描成像功能、切割（获取截面）功能以及EDX成分分析的功能进行试运行对外开放。
指标参数：
电子束和离子束交叉点、分析工作距离：4mm
加速电压：350V-30kV（电压范围内连续可调）
束流强度：1.6pA-0.1uA
二次电子分辨率：0.69nm（1kV）；0.59nm（2kV）
离子束分辨率：3.6nm（30kV）
样品加工后可快速切换到电子束检查与成像
具有自动烘烤自清洁功能
本设备刻蚀功能结果展示：
本设备应用SEM检测结果展示：
本设备扫描透射电子图像结果展示：
本设备高分辨率测量结果展示：
本设备EDX测试结果展示：
